Головна
Про Нас
Новини
Історія
Наука
НАУКОВО-ОСВІТНІЙ ЦЕНТР ІНМ-НТУУ "КПІ"
Аспірантура
Захист дисертацій
Вчена рада
Видання
Результати
Вакансії
+ Відділи : Відділ №1
Відділ №3
Відділ №4
Відділ №6
Відділ №7
Відділ №9
Відділ №11
Відділ №13
Відділ №14
Відділ №18
Відділ №20
Відділ №22
Рада молодих вчених
Науково-організаційний відділ
Керівництво Інституту
Профспілка
АЛКОН
Виробництво
Інвестиції
НАЙБІЛЬШ ВАГОМІ НАУКОВІ РЕЗУЛЬТАТИ ІНСТИТУТУ
Інформація про держ. закупівлі
e-mail
Пошукова система
"Надтверді матеріали"
Бібліотека
Конференції
Виставки
Обладнання центру
Контакти Центру
Порядок оформлення заявок

Выпуск №2, год 2005

УДК 538.971; 539.124.143

Г. П. Богатырева, В. М. Маевский, М. А. Маринич, Ю. И. Никитин, В.Г.Полторацкий, А.В. Козловский (г. Киев)
ЭПР и физико-химические свойства композиционных материалов на основе нанодисперсных алмазов

Описаны адсорбционные и каталитические свойства высокопористого (50 и 75‰) композиционного материала, содержащего наноалмазный порошок и связующую углеродную фазу. Механизм процесса электролитического выделения водорода исследован с помощью электронного парамагнитного резонанса. Показано, что активными центрами, на которых осуществляется электрокаталитическое выделения водорода, являются аморфные углеродные пленки и аморфные зоны наноалмазных частиц.


УДК 621.921.34-492.2

С. К. Гордеев, С. Г. Жуков (г. Санкт-Петербург) Н. В. Новиков, Ю. И. Никитин, В. Г. Полторацкий (г. Киев)
Получение и исследование зерен из композиционного материала алмаз—карбид кремния

Представлены результаты изучения зерен из композиционного материала алмаз—карбид кремния, спекаемого при низких давлениях. Зерна обладают высокими прочностными и термопрочностными показателями, высокой абразивной способностью и могут быть использованы в некоторых типах абразивного инструмента.


УДК 539.26; 666.233

И. В. Сельская, В. Д. Александров, П. В. Сельский (г. Макеевка Донецкой обл.)
Зависимость реальной структуры и скорости роста алмазных пленок от давления газовой смеси CH4+H2 и температуры подложки

Рентгенодифракционное исследование алмазных пленок, полученных методом химической транспортной реакции, показало, что пленки являются мелкодисперсными с большими микродеформациями и высокой плотностью дислокаций. Установлено, что зависимости от температуры подложки скорости роста пленок и таких параметров их реальной структуры как средний размер блоков мозаики, величина микродеформации и плотность дислокаций в кристаллитах имеют экстремальный характер. Установлена корреляция между зависимостью скорости роста пленок от температуры подложки и зависимостью параметров их реальной структуры от температуры подложки.


УДК 539.216:544.72:546.26-162

Л. Ю. Островская (г. Киев) А. П. Дементьев, В. Г. Ральченко, И. И. Кулакова (г. Москва)
Влияние модифицирования поверхности поликристаллических алмазных пленок ионными пучками на их гидрофильно-гидрофобные свойства

Исследована смачиваемость поликристаллических алмазных пленок дистиллированной водой в зависимости от химического состояния и структуры поверхности пленок, изменяемых бомбардировкой ионами аргона и отжигом на воздухе. Обнаружено усиление их гидрофобных свойств с увеличением дозы облучения, что коррелирует с увеличением доли поверхностных атомов углерода в состоянии sp²-гибридизации. Отжиг на воздухе приводит к усилению гидрофильных свойств пленок с увеличением степени их окисленности. Предложена методика оценки отношения sp²/sp³ для алмазоподобных пленок, основанная на измерении углов смачивания пленок тестирующей жидкостью.


УДК 621.762.242: 669.27

В. П. Бондаренко, И. В. Андреев, И. В. Савчук, Л. М. Мартынова, А. Н. Ващенко (г. Киев)
Особенности восстановления вольфрама из его оксида WO3 в реакторе закрытого типа

Впервые установлена возможность использования реактора закрытого типа для восстановления вольфрама из его оксида WO3. Описаны закономерности формирования особокрупнозернистого порошка вольфрама в реакторе закрытого типа. Выявлена роль внешне- и внутридиффузионных процессов. Показана возможность получения за короткое (4 ч) время порошка вольфрама с размерами частиц до 300 мкм и более.


УДК 620.186:620.22-419

С. В. Ткач (м. Київ)
Особливості використання растрової електронної мікроскопії при дослідженні композитних надтвердих матеріалів та багатошарових плівкових покриттів

Розглянуто особливості апаратного та програмного забезпечення при модернізації аналогових растрових електронних мікроскопів, наближення їх технічних характеристик до можливостей сучасних цифрових мікроскопів. Виконано дослідження структури багатошарових технологічних плівкових покриттів, нанорозмірних утворень та композитного надтвердого матеріалу на основі нітриду бору. Показано, що цифрове зображення поверхні зразка формату 4096×3072 пікселів є достатнім для характеризування макро- та мікроструктури матеріалу.


УДК 621.921

В. І. Лавріненко (м. Київ) Л. А. Проц (м. Ужгород)
Вплив кристалографічної орієнтації монокристалів парателуриту та тетраборату літію, отриманих методом витягування з розплаву, на мікрорельєф поверхонь при механічній обробці

Розглянуто вплив кристалографічної орієнтації кисневмісних монокристалів парателуриту та тетраборату літію, отриманих методом витягування з розплаву, на мікрорельєф поверхонь при їх механічній обробці. Показано вплив умов отримання кристалів, їх орієнтації та умов їх механічної обробки на характеристики мікрорельєфу поверхонь.


УДК 539.21:621.923

О. В. Лажевская, Е. А. Пащенко, Я. Л. Сильченко (г. Киев)
Дефектность и атмосферостойкость полированной поверхности природного камня

Исследована дефектность полированной поверхности природного камня. Проанализирована взаимосвязь дефектности поверхностного слоя с механизмом структурных изменений, инициируемых контактным взаимодействием минералов гранита с полировальными композитами. Предложена методика определения концентрации дефектов полированной поверхности природного камня, определяющих долговечность ее исходных визуальных характеристик.


УДК 621.539.4

В. С. Антонюк, Б. А. Ляшенко, Е. Б. Сорока, А. В. Рутковский (г. Киев)
О снижении остаточных напряжений в вакуум-плазменных покрытиях дискретной структуры

Определены остаточные напряжения в вакуум-плазменных покрытиях на основе нитрида титана. Показано, что замена сплошного покрытия на покрытие дискретной структуры позволяет снизить остаточные напряжения. Снижение остаточных напряжений зависит от размеров дискретного участка и тем больше, чем меньше этот участок. Предложенный подход позволяет ограничить величины остаточных напряжений в покрытии, сохраняя при этом его сплошность, и уменьшить вероятность контактного разрушения.


УДК 666.233

В. А. Муханов, Е. Б. Филиппова (г. Александров Владимирской обл., Россия)
Синтез мелких высокопрочных кристаллов алмаза

УДК 669.342.621.14

Т. Г. Африкян (г. Гавар, Республика Армения)
К вопросу о твердости алмазоносного слоя экструдированных кругов

На головну

Випуск № 6, рік 2024
Надтверді матеріали
Склад редакційної колегії
Архів журналу НТМ
Положення про етику наукових публікацій
Редакція журналу “Надтверді матеріали
Передплата
Історія журналу
НАУКОВО-ТЕОРЕТИЧНИЙ ЖУРНАЛ «НАДТВЕРДІ МАТЕРІАЛИ» У СВІТОВОМУ ІНФОРМАЦІЙНОМУ ПРОСТОРІ
Рекомендації для авторів журналу «Надтверді матеріали»
ВИМОГИ ДО ОФОРМЛЕННЯ СТАТЕЙ

Інститут Надтвердих Матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України Україна, 04074, Київ, вул.Автозаводська, 2;
Тел.: (+38 044) 468-86-40 Факс: 468-86-25 www.ism.kiev.ua Е-mail: secretar@ism.kiev.ua